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多光子非线性量子干涉首次实现 为新型量子态制备等应用奠定基础******

　　科技日报合肥1月16日电 (记者吴长锋)记者16日从中国科学技术大学获悉，该校郭光灿院士团队任希锋研究组与国外同行合作，基于光量子集成芯片，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的干涉。相关成果日前发表在光学权威学术期刊《光学》上。

　　量子干涉是众多量子应用的基础，特别是近年来基于路径不可区分性产生的非线性干涉过程越来越引起人们的关注。尽管双光子非线性干涉过程已经实现了20多年，并且在许多新兴量子技术中得到应用，直到2017年，人们才在理论上将该现象扩展到多光子过程，但实验上由于需要极高的相位稳定性和路径重合性，一直未获得新进展。光量子集成芯片，以其极高的相位稳定性和可重构性逐渐发展成为展示新型量子应用、开发新型量子器件的理想平台，也为多光子非线性干涉研究提供了实现的可能性。

　　任希锋研究组长期致力于硅基光量子集成芯片开发及相关应用研究并取得系列重要进展。在前工作基础上，研究组通过进一步将多光子量子光源模块、滤波模块和延时模块等结构片上级联，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的相干相长、相消过程，其四光子干涉可见度为0.78。而双光子符合并未观测到随相位的明显变化，这同理论预期一致。整个实验在一个尺寸仅为3.8×0.8平方毫米的硅基集成光子芯片上完成。

　　这一成果成功地将两光子非线性干涉过程扩展到多光子过程，为新型量子态制备、远程量子计量以及新的非局域多光子干涉效应观测等应用奠定了基础。审稿人一致认为这是一个重要的研究工作，并给出了高度评价：该芯片设计精良，包含多种集成光学元件，如纠缠光子源、干涉仪、频率滤波器/组合器；这项工作推动了集成光子量子信息科学与技术研究领域的发展。

BOE（京东方）位列2022 IFI专利授权排行榜全球第11位 科技创新引领高质量发展******

　　光明网讯（记者王一涵）1月10日，全球知名专利服务机构IFI Claims发布的2022年度统计报告显示，BOE（京东方）以2195件专利授权量位列美国专利授权排行榜全球第11位，连续第五年跻身全球TOP20，成为为数不多上榜的中国企业之一。据了解，IFI Claims成立于1955年，是历史悠久的权威专利服务机构，其每年公布的美国授权专利排名榜单在业内具有很高影响力。尽管2022年面临着一定的压力与挑战，BOE（京东方）的专利授权量依旧超过了2021年，这一亮眼表现不仅充分展现了其持续的技术创新能力与行业技术领导力，也彰显出中国的科技创新实力及全球影响力正在加速崛起，释放出中国式高质量发展的澎湃动能。

　　BOE（京东方）副总裁、技术与知识产权管理中心负责人李新国表示，2023年即将迎来BOE（京东方）创立30周年的重要时刻，自创立以来，BOE（京东方）始终秉持“对技术的尊重和对创新的坚持”理念，无论企业经营情况如何，我们始终坚持高比例的研发投入，2021年研发投入高达124亿元。目前BOE（京东方）已建立完善的专利管理体系，聚焦高价值专利布局，并持续开展基础技术与前沿技术研发，着力构建确保企业未来30年持续领先的技术创新管理体系，以科技创新驱动企业自身并引领全产业链的高质量发展。

　　目前BOE（京东方）已全面建成规模庞大的技术创新体系，打造了“1+1+3”技术创新平台，包含1个国家工程实验室，1个创新总部，及北京、成都、合肥3个创新分中心，并通过17条全球领先的半导体显示生产线及4座智能制造工厂所形成的庞大的产品平台，持续推动技术研发成果的转化与落地。BOE（京东方）还与国内外科研院所、顶尖高校、知名企业、生态链合作伙伴广泛合作，围绕技术、产品、市场及商业模式创新等多方面开展深度合作与协同开发，推动科技创新要素高效聚合，积极构建开放融合的产业创新生态。BOE（京东方）即将迈入创立30周年的崭新征程，作为行业引领性科技企业将继续秉持“屏之物联”发展战略，深潜“屏联万物”的蓝海之中。全面加速构建“Powered by BOE”产业创新协作与创新生态，让科技创新成果转化成为创新发展与价值跃迁的关键引擎。

　　（文图：赵筱尘 巫邓炎）